可分離各種液體。
分子量處理範圍 500~10,000。
提升良率，維持顯影液濃度穩定。
節省成本，大幅降低顯影液消耗。
提升產速，減少保養週期與工時。
節省大量用水及排水，降低廠務負擔。
自動清洗，濃度管理，使用效果及壽命有保障。
可擴充各種功能滿足生產條件。
處理量 1~100 CMH。
此系統已榮獲4 國專利。
| KOH顯影液 | ||
|---|---|---|
| 過濾前 | 過濾後 | |
 |
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| 導電度 μs/cm | 2277 | 2856 |
| PH值 (ph) | 10.39 | 10.38 |
| 總溶解固體TDS (ppm) | 1428 | 1138 |
| NaOH顯影液 | ||
|---|---|---|
| 過濾前 | 過濾後 | |
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| 導電度 μs/cm | 3860 | 3446 |
| PH值 (ph) | 10.43 | 10.40 |
| 總溶解固體TDS (ppm) | 1932 | 1728 |
| Na2CO3顯影液 | |||
|---|---|---|---|
| 過濾前 | HP濾芯 | UHP濾芯 | |
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| 導電度 μs/cm | 14970 | 14770 | 14580 |
| PH值 (ph) | 11.01 | 11.01 | 11.01 |
| 總溶解固體TDS (ppm) | 7480 | 7380 | 7290 |
| 半導體化學研磨廢液(CMP) | |||
|---|---|---|---|
| 過濾前 | 過濾後 | ||
|
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| 砷(As)含量(mg/kg) | 1260 | 661 | |
| 鎵(Ga)含量(mg/kg) | 691 | 0 | |
| 固含量(mg/g) | 2.94 | 0.792 | |
